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硬質陽極氧化和普通陽極氧化的區別

文章出處:新聞資訊 責任編輯:東莞市博望金屬材料有限公司 發表時間:2019-03-26
  

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硬質陽極氧化和普通陽極氧化的區別

1. 溫度不同:普通 18-22℃左右,有添加劑的可以到  30℃,溫度過高易出現粉末或裂紋;硬質氧化一般在 5℃以下,相對來說溫度越低硬質越高。

2. 濃度差異:普通氧化一般 20%左右,硬質一般在 15%或更低。

 

3. 電流/電壓差異:普通氧化電流密度一般:1-1.5A/d ㎡;而硬質氧化:1.5- 3A/d 

以上是操作條件方面的差異,下面說下膜層性能方面的差異:

1. 膜層厚度:硬質氧化一般膜層厚度>15μm,過低達不到硬度的要求,而普通氧化厚度則相對較薄。

2. 表面狀態:普通氧化表面較平整,而硬質氧化表面較粗糙。

3. 孔隙率不同:普通氧化孔隙率高,而硬質氧化孔隙率低。

4. 適用場合不同:普通氧化適用于裝飾為主,而硬質氧化以功能為主,一般用于耐磨、耐電的場合。

◇ 導電氧化就是化學氧化,只不過形成的化學氧化膜電阻小可通電稱為導電氧化。化學氧化一般不封閉,很多時候需要噴涂。化學氧化膜不可用手摸,以免有手印,一定要封閉的話一般用重鉻酸鉀。導電必須用化學氧化,通電的陽極氧化膜都是不導電的,當然氧化膜極薄也導電不過有彩光。導電氧化膜有一個固化過程需 24 小時。

 

 

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